信任好， 测量更好！
新的！！！ H2O 检测下限 0.01 ppmV | 10 ppbV
在越来越多的技术过程中，存在持续监测气体气氛中残留水分和氧气（通常也是残留氧气）的问题，以防止或避免腐蚀损坏。
为了满足业界对可用于同时测量气体中的微量水分和残留氧气的组合测量设备的需求，我们展示了 AQUATROX 设备，该设备可以测量痕量范围内的水分和残留氧气可以使用 ZrO2 氧传感器、顺磁传感器或电化学传感器进行测量。
例子：
监测焊接和锡焊技术中的保护气体和成型气体
在灌装、生产和取出过程中监测医用氧气
半导体行业中残留水分和残留氧气的监测（例如印刷电路板生产中的质量监测）
在热处理过程中监测还原或惰性炉气氛（例如金属或陶瓷的退火和烧结）
泄漏检测
跟踪熔炉、技术容器、反应器等的冲洗过程。
跟踪热解过程以进行过程优化、质量保证和节能
热和/或化学表面处理（碳化、氮化、硫化等）的工艺优化
控制和调节真空工艺（PVD、溅射、等离子处理/激光技术）
随着用于同时测定残留水分和氧气的组合装置的开发，我们可以首次同时评估这两个气体参数，并将它们作为控制变量提供给工厂操作员。在 AQUATROX® 品牌下，我们将经过验证的 P2O5 电解和 ppm 和 % 范围内的各种氧气测量方法结合到一个统一、方便的分析系统中。
技术规格 | |
产品 | AQUATROX® IV - R 19" 机架结构，第一通道微量水分，第二通道氧气浓度 可用的各种氧传感器：顺磁、电位、电化学 |
性能规格 | |
测量范围 | 0-2000 Vppm，露点 -100°C - 20°C，可根据要求提供非标准范围 氧气：0-100%、95-100%、0.1ppm-23,000ppm |
准确性 | H2O：读数的 +/- 5%，最小 0.4 ppmV | 可选：至少 0.04 ppmV 氧气：根据要求 |
响应时间 | 干湿：T90 < 5 秒； 湿干：T90 < 15 min 氧气：根据要求 |
重复性 | H2O：+/- 0.1ppm | 可选：+/- 0.02ppm 氧气：根据要求 |
校准 | 可溯源校准证书 | n 点校准/调整（可选） |
广告 | 触摸屏 800x480 像素，彩色 |
每个测量通道 | |
检测下限 | H2O：0.1 ppmV | 可选：0.01ppmV 氧气：根据要求 |
测量值显示 | H2O: In ppmV oder Tp°C (einstellbar) Sauerstoff: %, ppmV |
传输率 | 32bit |
数据记录率 | 最少 2 秒 最多 10 分钟 |
传感器检测 | 自动地 |
传感器测试 | 自动（功能测试） |
模拟输出 | 4-20 mA（可自由扩展） |
报警输出 | 极限值 - 可编程为无电位转换触点 |
通道中继 | 4 Kanalrelais gemäß NAMUR (F + S; C + M), je Kanal |
测量单元 (H2O) | |
材料测量单元 | PVDF 或不锈钢 |
传感器材料 | 玻璃载体上的铂/陶瓷或陶瓷载体上的叉指结构 |
泄漏率 | < 5x10 -7 mbar x l / s |
样气流量 | 20 Nl/h 或 100 Nl/h |
样气温度 | +5 … +90 °C |
样气压力 | 测量池入口处约 200 mbar 过压，无压力流出 |
气体连接 | 用于 ¼” NPT 螺丝 |
测量单元连接 | 5 - 针 活页塞，弯头 |
测量电缆 | 组装 2 m; 最大电缆长度 100 m |